CNR Institutional Research Information System

Fabrication of RF MEMS switches on alumina wafers using PECVD a-Si as sacrificial layer

Marcelli R;
2006
2006
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
RF MEMS
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/73041
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