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STUDY OF SIF4-N2-H2 PLASMAS FOR THE DEPOSITION OF FLUORINATED SILICON-NITRIDE FILMS

1993
1993
Inglese
WOS:A1993BZ22U00005
284
27
Sì, ma tipo non specificato
1
info:eu-repo/semantics/article
262
CICALA, G; BRUNO, G BRUNO, G; CAPEZZUTO, P CAPEZZUTO, P; LOSURDO, M LOSURDO, M
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
01.01 Articolo in rivista
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