CNR Institutional Research Information System

Low pressure MOCVD of transparent Cu-Ti-O thin films

Casellato;
2001
2001
CHIMICA INORGANICA E DELLE SUPERFICI
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
International Conference ”Thin film deposition of oxide multilayers. Industrial-scale processing”
Sì, ma tipo non specificato
Autrans, Francia
2
none
G A Battiston U; Casellato; R Gerbasi; D Barreca; E Tondello
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/79021
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