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Patterning-Induced Strain Relief in Single Lithographic SiGe Nanostructures Studied by Nanobeam X-ray Diffraction

M Bollani;
2012
2012
Inglese
Sì, ma tipo non specificato
10
info:eu-repo/semantics/article
262
Chrastina, D; M Vanacore, G; Bollani, M; Boye, P; Schöder, S; Burghammer, M; Sordan, R; Isella, G; Zani, M; Tagliaferri, A
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none
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