no abstract available

Boron nitride and Silicon nitride multilayered thin films deposited by RF plasma reactive pulsed laser ablation

V Marotta;S Orlando;A Santagata
2003

Abstract

no abstract available
2003
Istituto di Struttura della Materia - ISM - Sede Roma Tor Vergata
PLD
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/85424
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact