CNR Institutional Research Information System

Methodology for the Multiscale Simulation of the Laser Annealing Process in the MOS Device Technology

A La Magna
2006
2006
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/86726
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact