CNR Institutional Research Information System

"Thermal decomposition of silicon-rich oxides deposited by the LPCVD method"

A Chiasera;M Ferrari
2011
2011
Istituto di fotonica e nanotecnologie - IFN
SiOx
Nanocrystals
Raman
LPCVD
thermal properties
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/86822
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