CNR Institutional Research Information System

Characterisation of thin LPCVD silicon-rich oxide films

A Chiasera;M Ferrari
2011
2011
Istituto di Fisica Applicata - IFAC
Istituto di fotonica e nanotecnologie - IFN
silicon-rich oxide
Low Pressure Chemical Vapor Deposition
infrared spectroscopy
ellipsometry
m-line spectroscopy
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/86826
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