CNR Institutional Research Information System

Electronic properties of amorphous carbon nitride (a-CNx) films prepared by RF plasma assisted reactive pulsed laser deposition

V VALENTINI;
2009
2009
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Istituto per lo Studio dei Materiali Nanostrutturati - ISMN
04.02 Abstract in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/89308
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