CNR Institutional Research Information System

Effects of growth temperature on the properties of HfO~ 2 films grown by atomic layer deposition

Claudia Wiemer;
2003
2003
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
Inglese
Estonian Academy of Sciences, Physics and Mathematics
52
308
320
2
none
Giovanna Scarel; Claudia Wiemer; Sandro Ferrari; Grazia Tallarida; Marco Fanciulli
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/9239
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