CNR Institutional Research Information System

Plasma deposition of a-Si,Ge:H,F from a novel SiF4-GeH4-H2 mixture

G Cicala;
1989
1989
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
9th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-9) Proceedings IUPAC
9th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-9)
III
1411
1416
6
Sì, ma tipo non specificato
September 1989
Pugnochiuso (Italia)
4
none
Capezzuto, P; Cicala, G; Tassielli, V; Bruno, G
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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