CNR Institutional Research Information System

Study of microscopic parameters in plasma systems for amorphous silicon deposition

G Cicala;
1989
1989
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
9th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-9) Proceedings IUPAC
9th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-9)
III
1405
1410
6
Sì, ma tipo non specificato
September 1989
Pugnochiuso (Italia)
1
none
G. Cicala; G. Bruno; P. Capezzuto; P. Manodoro;V. Pische
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/116718
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