CNR Institutional Research Information System

A new plasma chemical system for the deposition of amorphous silicon-germanium alloys

G Cicala;M Losurdo;
1991
1991
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
10th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-10) Proceedings IUPAC
10th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-10)
III
1
6
6
Sì, ma tipo non specificato
August 1991
Bochum (Germania)
1
none
P. Capezzuto; G. Cicala; M. Losurdo; G. Bruno
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/116726
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