From amorphous to microcrystalline silicon deposition in SiF4-H2-He plasmas in situ control by optical emission spectroscopy

G Cicala;
2000

2000
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Abstracts European Mat. Res. Soc. Spring Meeting (E-MRS)
European Mat. Res. Soc. Spring Meeting (E-MRS)
0/P13 p. 0-13
Sì, ma tipo non specificato
June 2000
Strasbourg (France)
none
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
Cicala, G; Capezzuto, P; Bruno, G
275
04 Contributo in convegno::04.03 Poster in Atti di convegno
3
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