CNR Institutional Research Information System

Glow discharge deposition of amorphous silicon films: Role of SiF4/SiH4 gas ratio and of plasma modulation

G Cicala;M Losurdo;
1994
1994
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
0-9521452-2-7
04.01 Contributo in Atti di convegno
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