CNR Institutional Research Information System

Deposition-etching competitive mechanism governing the structure and chemical composition of plasma deposited silicon-based materials.

G Cicala;
1999
1999
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Absrtracts 1st International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials
1st International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials
PA15
Sì, ma tipo non specificato
February 1999
Torino (Italy)
none
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
Ambrosone, G; Bruno, G; Capezzuto, P; Cicala, G; Coscia, U
275
04 Contributo in convegno::04.03 Poster in Atti di convegno
5
04.03 Poster in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/122082
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