Plasma enhanced chemical vapor deposition of nanocrystalline silicon films

G Cicala;
1998

1998
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Abstract of XXVII Congresso di Chimica Inorganica
XXVI Congresso di Chimica Inorganica
P16 p.70
Sì, ma tipo non specificato
Giugno-Luglio 1998
Acquafredda di Maratea (PZ)
3
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
Cicala, G; Capezzuto, P; Bruno, G
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