Deposition of nanocrystalline silicon films from SiF4-H2-He plasmas.

G Cicala;
1998

1998
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Abstracts XIV Congresso Nazionale sulla Scienza e Tecnologia del Vuoto,
XIV Congresso Nazionale sulla Scienza e Tecnologia del Vuoto,
P4 02
Sì, ma tipo non specificato
Maggio 1998
Vicenza
none
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
G. Cicala; P. Capezzuto;G. Bruno
275
04 Contributo in convegno::04.03 Poster in Atti di convegno
1
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