CNR Institutional Research Information System

Effect of the Substrate Temperature on the Deposition of Silicon Films in a Reactive Plasma System

G Cicala;
1986
1986
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Atti del XIX Congresso Nazionale di Chimica Inorganica
XIX Congresso Nazionale di Chimica Inorganica
280
283
4
6-10 Ottobre 1986
Cagliari
4
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
Bruno, G; Capezzuto, P; Cicala, G; Cramarossa, F
04.02 Abstract in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/130942
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