The Role of Gas Phase and Surface Processes in the Deposition of GD-Si:H,Cl Films

G Cicala;
1984

1984
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Abstracts 6th International Conference on Thin Films
6th International Conference on Thin Films
082
Sì, ma tipo non specificato
August 13-17, 1984
Stockolm (Svezia)
1
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
G. Bruno; P. Capezzuto; G. Cicala; F. Cramarossa
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/130947
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact