Study of NF3 Plasmas for the Ablation of Amorphous Silicon from internal PECVD Reactor walls

G Cicala;M Losurdo;
1993

1993
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Abstracts XII Congresso Nazionale sulla Scienza e Tecnologia del Vuoto
XII Congresso Nazionale sulla Scienza e Tecnologia del Vuoto
p.45 PCO-1
Marzo 1993
Bolzano
5
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
Bruno, G; Manodoro, P; Cicala, G; Losurdo, M; Capezzuto, P
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