CNR Institutional Research Information System

Study of SiF4-N2-H2 plasmas for the deposition of fluorinated silicon nitride films

G Cicala;M Losurdo
1992
1992
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Abstracts Fall Meeting of the Material Research Society (MRS)
Fall Meeting of the Material Research Society (MRS)
p.248 G1.5
Sì, ma tipo non specificato
Dicembre 1992
Boston (USA)
4
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
Cicala, G; Bruno, G; Capezzuto, P; Losurdo, M
04.02 Abstract in Atti di convegno
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/142443
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact