Plasma Deposition of Amorphous Silicon Based Materials. The role of the Chemisorption

G Cicala;
1990

1990
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Atti del Congresso Interdivisionale della Società Chimica Italiana,(CISCI 90)
Congresso Interdivisionale della Società Chimica Italiana,(CISCI 90)
IC5 p.467
Settembre-Ottobre 1990
San Benedetto del Tronto
4
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
Bruno, G; Capezzuto, P; Cicala, G; Manodoro, P
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