CNR Institutional Research Information System

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) of Amorphous Silicon-Germanium Alloys from SiF4-GeH4-H2 Mixtures

G Cicala;
1989
1989
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Atti del Congresso Interdivisionale della Società Chimica Italiana(CISCI 89)
Congresso Interdivisionale della Società Chimica Italiana(CISCI 89)
437
Ottobre 1989
Perugia
1
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
P. Capezzuto; G. Cicala; V. Tassielli;G. Bruno
04.02 Abstract in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/142481
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