CNR Institutional Research Information System

Plasma deposition of Amorphous Silicon Alloys: a-Si,Ge:H,F, Thin Films from SiF4-GeH4-H2 Mixtures

G Cicala;
1988
1988
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
04.02 Abstract in Atti di convegno
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/142483
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact