CNR Institutional Research Information System

Continuous and modulated deposition of fluorocarbon films by means of C-C4F8 plasmas

Palumbo Fabio;Cicala Grazia;
2003
2003
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
16th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-16) Proceedings IUPAC
16th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-16) IUPAC, Ed. R. d?Agostino, P. Favia, F. Fracassi and F. Palumbo, 0r9.9, 443, June 2003
443:1
443:6
6
IUPAC, International union of pure and applied chemistry
Research Triangle Park, NC
STATI UNITI D'AMERICA
Sì, ma tipo non specificato
22-27 June 2003
Taormina (Italy)
1
none
Milella, Antonella; Palumbo, Fabio; Favia, Pietro; Cicala, Grazia; dAgostino, Riccardo
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/145398
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