RF-Sputtering technique: a promising tool for ceria-based film deposition

Barison S;Daolio S;Fabrizio M;Chiodelli G;Roncari E;Sanson A
2006

2006
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
Istituto di Scienza, Tecnologia e Sostenibilità per lo Sviluppo dei Materiali Ceramici - ISSMC (ex ISTEC)
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/170551
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