CNR Institutional Research Information System

Thermal oxidation of high dose aluminum implanted silicon

Iacona F;La Via F;Privitera V;
2000
2000
Inglese
147
7
2762
2765
Sì, ma tipo non specificato
AL; SI; DIFFUSION; LAYERS
6
info:eu-repo/semantics/article
262
Iacona, F; Raineri, ; La Via, F; Privitera, V; Gasparotto, A; Rimini, E
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
01.01 Articolo in rivista
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/175022
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact