CNR Institutional Research Information System

Depth profiles and damage annealing of 1.06 MeV As++ implanted in silicon

RNipoti;
1989
1989
WOS:A1989T842200009
2
63
4
info:eu-repo/semantics/article
262
A.Armigliato;R.Nipoti;G.G.Bentini;A.M.Mazzone;M.Bianconi; A.Nylandsted Larsen;A.Gasparotto
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