CNR Institutional Research Information System

-

BORON AND PHOSPHORUS ION IMPLANTATION IN A-SIXC1-XH THIN FILMS

RIZZOLI R;SUMMONTE C;
1994

Abstract

-
1994
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
Inglese
AMORPHOUS SILICON TECHNOLOGY-1994
MRS Spring Meeting
336
571
576
6
1-55899-236-7
APR 04-08, 1994
SAN FRANCISCO, CA
a-SiC:H thin films
boron doping
phosphorus doping
ion implantation
Symposium on Amorphous Silicon Technology, at the 1994 MRS Spring Meeting, SAN FRANCISCO, CA, APR 04-08, 1994
2-s2.0-84897584569
WOS:A1994BC30G00091
11
none
Rizzoli, R; Galloni, R; Summonte, C; Demichelis, F; Pirri, ; Cf, ; Tresso, E; Crovini, G; Rava, P; Zignani, ; F,
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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