CNR Institutional Research Information System

-

Metastable Phase of Ion Implanted Antimony in Silicon by Incoherent Light Annealing

R Rizzoli
1984

Abstract

-
1984
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
Inglese
K Hennig
Energy pulse modification of semiconductors and related materials
Conference on Energy Pulse Modification of Semiconductors and Related Materials
291
295
5
Akademie der Wissenschaften der DDR, Zentralinstitut fu?r Kernforschung Rossendorf bei Dresden
Dresden
GERMANIA
Sì, ma tipo non specificato
25-28 September, 1984
Dresden, G.D.R.
Ion Implanted Antimony
1
none
Ya. Zysin; A. Nylandsted Larsen; G. Weyer; R. Galloni; R. Rizzoli
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/206224
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact