CNR Institutional Research Information System

Strain analysis of deep sub-micron CMOS devices by TEM/CBED in the < 230 > zone axis

Armigliato A;Balboni R;
2001
2001
Inglese
PROCEEDINGS OF THE 5TH MULTINATIONAL CONGRESS ON ELECTRON MICROSCOPY
5th Multinational Congress on Electron Microscopy
285
292
8
1-58949-003-7
Sì, ma tipo non specificato
SEP 20-25, 2001
LECCE, ITALY
WOS:000183071700118
2
none
Armigliato A.; Balboni R.; Frabboni S.; Cullis AG.; Benedetti A.; Pavia G.
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/210601
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