CNR Institutional Research Information System

Strain Characterisation at the nm Scale of Deep Sub-Micron Devices by Convergent-Beam Electron Diffraction

Aldo Armigliato;R Balboni;
2002
2002
3-908450-64-0
electron diffraction
process simulation
silicon devices
strain
stress
04.01 Contributo in Atti di convegno
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