CNR Institutional Research Information System

Rapid Thermal Annealing of Ion Implanted Sb in Si: a Comparison of Substitutional Fractions from Channeling, Electrical and Mössbauer Measurements

RRizzoli
1985
1985
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
Inglese
V.T. Nguyen, A.G. Cullis
E-MRS Symposia Proceedings: Energy Beam Solid Interactions and Transient Thermal Processing
E-MRS Spring Meeting
319
324
6
Les Editions de Physique
Les Ulis
FRANCIA
Sì, ma tipo non specificato
1985
Strasburgo
5
none
Larsen, Anylandsted; Ftpedersen, ; Gweyer, ; Rgalloni, ; Rrizzoli,
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/237936
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact