Ion implanted lateral p+-i-n+ diodes on HPSI 4H-SiC

Roberta Nipoti;Francesco Moscatelli;Alberto Roncaglia;Fulvio Mancarella;
2014

2014
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
4H-SiC
bipolar diodes
lateral device
ion implantation
annealing
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/270037
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact