CNR Institutional Research Information System

Comparison of Electrical Measurements with Structural Analysis of Thin High-k Hf-Based Dielectric Films on Si

Parisini A;
2009
2009
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
01.01 Articolo in rivista
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/29650
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact