CNR Institutional Research Information System

Facile Deposition of TiO2 Thin Films on Substrates of Unusual Shapes: An Example of the Versatility of CVD Technique

Gerbasi R;Guerriero P;Porchia M;Rizzo L;Roncari E
1994
1994
CHIMICA INORGANICA E DELLE SUPERFICI
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
Istituto di Scienza, Tecnologia e Sostenibilità per lo Sviluppo dei Materiali Ceramici - ISSMC (ex ISTEC)
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/4062
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