Influence of hydrogen on the structural stability of annealed ultrathin Si/Ge amorphous layers

Frigeri C;Nasi L;
2009

2009
Istituto dei Materiali per l'Elettronica ed il Magnetismo - IMEM
Inglese
XIII International Autumn Meeting, Gettering and Defect Engineering in Semiconductor Technology
Sì, ma tipo non specificato
26 Sept - 02 Oct. 2009
Döllnsee-Schorfheide Berlin
61.05.cf
61.72.uf
66.30.-h
Si/Ge
Amorphous multilayers
6
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
none
274
04 Contributo in convegno::04.02 Abstract in Atti di convegno
Frigeri, C; Nasi, L; Serenyi, M; Csik, A; Erdely, Z; Beke, D L
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