CNR Institutional Research Information System

Low-Temperature Growth of HfO2 Dielectric Layers by PECVD

M Losurdo;MM Giangregorio;G Bruno;D Barreca;
2003
2003
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Mat. Res. Soc. Symp. E Boston (USA) Dec. 1-5 (2003).
Sì, ma tipo non specificato
Boston (USA)
2
none
M. Losurdo; M.M. Giangregorio; M. Luchena; P. Capezzuto; G. Bruno; D. Barreca; A. Gasparotto; E. Tondello
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/53772
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