CNR Institutional Research Information System

Low-Temperature Growth of HfO2 Dielectric Layers by PECVD

M Losurdo;MM Giangregorio;G Bruno;D Barreca;
2003
2003
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
04.01 Contributo in Atti di convegno
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/53774
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact