MOCVD deposition of CoAl2O4 films

Carta G;El Habra N;Natali M;Rossetto G;Zanella P
2003

2003
CHIMICA INORGANICA E DELLE SUPERFICI
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
MOCVD
Thin films
Spinel
CoAl2O4
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/61788
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