CNR Institutional Research Information System

MOCVD Deposition of VOx films from a novel vanadium(III) precursor

Carta G;Crociani L;Natali M;Rossetto G;Zanella P
2008
2008
CHIMICA INORGANICA E DELLE SUPERFICI
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
MOCVD
Vanadium(III)
SAMIC2008
04.03 Poster in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/61830
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