CNR Institutional Research Information System

New Hafnium compounds for MOCVD of HfO2 thin films

Carta G;Rossetto G;Crociani L;Saoncella O;Natali M;Zanella P;
2005
2005
CHIMICA INORGANICA E DELLE SUPERFICI
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
MOCVD
HfO2
thin films
04.03 Poster in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/61839
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