New Hafnium compounds for MOCVD of HfO2 thin films

Carta G;Rossetto G;Crociani L;Saoncella O;Natali M;Zanella P;
2005

2005
CHIMICA INORGANICA E DELLE SUPERFICI
Istituto di Chimica della Materia Condensata e di Tecnologie per l'Energia - ICMATE
Inglese
SAMIC 2005 - Syntheses and methodologies in inorganic chemistry - Trends in Nanoscience
No
4-7 DICEMBRE 2005
Bressanone
MOCVD
HfO2
thin films
restricted
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
Carta, G; Volpe, D; Rossetto, G; Crociani, L; Saoncella, O; Bolzan, M; Natali, M; Zanella, P; Cavinato, G
275
04 Contributo in convegno::04.03 Poster in Atti di convegno
9
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