SnO2 nanocrystalline thin films are deposited on Al2O3 and SiO2/Si(100) by chemical vapor deposition starting from diethylaminodimethylstannane (IV) [(CH3)2Sn(N(C2H5)2)2]. X-ray photoelectron spectra of the principal core levels for the surface of a SnO2 film on SiO2/Si(100) are presented.

SnO2 nanocrystalline thin films by XPS

ZANELLA, PIERINO;BARRECA, DAVIDE
2000

Abstract

SnO2 nanocrystalline thin films are deposited on Al2O3 and SiO2/Si(100) by chemical vapor deposition starting from diethylaminodimethylstannane (IV) [(CH3)2Sn(N(C2H5)2)2]. X-ray photoelectron spectra of the principal core levels for the surface of a SnO2 film on SiO2/Si(100) are presented.
2000
Inglese
7
81
85
5
Sì, ma tipo non specificato
rivista non-ISI
2
info:eu-repo/semantics/article
262
Zanella, Pierino; Barreca, Davide
01 Contributo su Rivista::01.01 Articolo in rivista
none
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/6228
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 65
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact