?Effect of bias voltage on the growth and properties of PECVD hydrogenatede amorphous carbon films

G Cicala;G S Senesi
2003

2003
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
Abstracts and Full-Papers CD of 16th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-16) IUPAC, Ed. R. d?Agostino, P. Favia, F. Fracassi and F. Palumbo, Po8.8, 392, June 2003
Taormina (Italy)
none
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
G. Cicala; P. Bruno; A.M. Losacco;G. S. Senesi
275
04 Contributo in convegno::04.03 Poster in Atti di convegno
2
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/85408
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact