Modified oxidation process for gate oxide growth on SiC

RNipoti
2003

2003
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
III SIC WORKSHOP 2003
Chivasso (TO)
none
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
M.Canino; F. Moscatelli; A.Poggi; G.C. Cardinali;R.Nipoti
275
04 Contributo in convegno::04.03 Poster in Atti di convegno
0
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/86665
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact