CNR Institutional Research Information System

Electrical properties of Al203/4H-SiC structures grown by atomic layer chemicl vapor deposition

Servidori M;Nipoti R;
2006
2006
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
04.03 Poster in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/86704
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