Electrical properties of Al203/4H-SiC structures grown by atomic layer chemicl vapor deposition

Servidori M;Nipoti R;
2006

2006
Istituto per la Microelettronica e Microsistemi - IMM
ECSCRM 2006
Newcastle upon Tyne, UK
none
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
Avice, M; Grossner, U; Pintilie, I; Svensson, Bg; Servidori, M; Nipoti, R; Nilsen, O; Fjellvag, H
275
04 Contributo in convegno::04.03 Poster in Atti di convegno
8
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