CNR Institutional Research Information System

Plasma deposition of SiC:H thin films from SiF4-CH4-H2-He mixtures.

G Cicala;
2001
2001
Istituto di Nanotecnologia - NANOTEC
Inglese
15th International Symposium on Plasma Chemistry, (ISPC-15) Proceedings IUPAC
15th International Symposium on Plasma Chemistry
V
1755
1760
6
IUPAC, International union of pure and applied chemistry
Research Triangle Park, NC
STATI UNITI D'AMERICA
Sì, ma tipo non specificato
9-13 July 2001
Orléans France
4
none
Cicala, G; Capezzuto, P; Bruno, G; C Rossi, M
273
info:eu-repo/semantics/conferenceObject
04 Contributo in convegno::04.01 Contributo in Atti di convegno
04.01 Contributo in Atti di convegno
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.14243/8680
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